俄罗斯自研350nm光刻机量产，半导体设备国产化迈出关键一步

近日，俄罗斯在半导体设备领域取得了重大突破。据FrontierIndia报道，俄罗斯首台自主研发的350纳米光刻机Progress STP-350已正式投入批量生产，这一成就被视为俄罗斯重建本土半导体设备产业的重要里程碑。

根据计划，首台Progress STP-350将于2026年12月交付给莫斯科的Mapper公司。Mapper公司隶属于俄罗斯国家技术集团公司（Rostec），并通过Shvabe控股公司与之关联。第二台设备则计划交付给Element集团旗下的Industry Solutions公司。这两套系统将分别整合到与俄罗斯国内微电子生态系统相关的企业中。

Progress STP-350是一款投影式步进光刻机，其曝光区域尺寸为22毫米×22毫米，工艺分辨率为350纳米。该设备能够处理直径达200毫米的晶圆，更适合成熟节点半导体制造，而非尖端逻辑器件生产。尽管350纳米工艺不如当前先进制程，但它对工业电子、功率器件、汽车零部件和专用传感器仍至关重要。

值得注意的是，俄罗斯已在着手研发130纳米光刻技术。首台350纳米光刻机或将成为其更大规模半导体设备研发进程的开端。泽列诺格勒纳米技术中心（ZNTC）与白俄罗斯公司Planar合作，开发了用于350纳米工艺节点半导体生产的新型系统。

俄罗斯宣布，下一代国产光刻系统预计将于2027年投入使用，该系统能够生产130纳米芯片。从350纳米过渡到130纳米，将大幅扩展俄罗斯国内可开发的半导体应用范围。

这一进展不仅表明俄罗斯已完成从实验室研发到光刻系统批量生产的过渡，也意味着其在半导体设备领域的自主能力得到了显著提升。随着130纳米光刻技术的研发推进，俄罗斯有望在未来几年内进一步扩大其在半导体制造领域的影响力。