中国光刻机路线图,DUV量产与EUV原型双轨并进 近日,中国半导体设备领域的最新动态引发业界广泛关注国内企业正在推进自主研发的DUV(深紫外)光刻机的小批量试产工作,预计每年可生产约五台工程样机,为潜在客户提供... 2026年08月06日 半导体/芯片 #光刻机 #半导体制造
中国新规严打芯片抄袭,10月15日生效,引入惩罚性赔偿机制 近日,中国国务院正式批准并发布了修订后的《集成电路布图设计保护条例》,该条例将于2026年10月15日起生效。这一重磅新规被视为中国在半导体领域加强知识产权保护... 2026年08月05日 半导体/芯片 #芯片设计 #知识产权