#5nm单次曝光

共 1 篇相关文章

10月9日，ASML与蔡司联合发布论文，正式公布下一代EUV光刻机Hyper NA的蓝图。该设备预计10年后推出，可实现5nm单次曝光，数值孔径提升至0.75，...

2026年10月09日半导体/芯片 #ASML #高数值孔径