西门子与英伟达合作加速光刻计算，Calibre集成cuLitho实现全芯片OPC12倍提速 西门子EDA与英伟达宣布将NVIDIA cuLitho库集成至Calibre制造软件，显著提升计算光刻效率。该方案针对先进AI芯片制造中的光学邻近效应校正（OP... 2026年10月19日 半导体/芯片 #NVIDIA #AI芯片 分享海报
西门子与台积电深化AI芯片设计合作，推动先进制程工艺发展 西门子与台积电宣布进一步加强在半导体设计工具领域的合作，重点聚焦于人工智能辅助的芯片设计流程。双方将整合Calibre验证软件与Aprisa、Solido设计工... 2026年09月30日 半导体/芯片 #半导体 #TSMC 分享海报
