吉姆·凯勒公司更名Fab2,打造“晶圆厂制造厂”

IT之家7月5日讯,据tom's hardware报道,由传奇芯片架构师吉姆·凯勒(Jim Keller)和DIY制造先驱萨姆·泽洛夫(Sam Zeloof)共同创立的半导体初创公司Atomic Se...

半导体/芯片

IT之家7月5日讯,据tom's hardware报道,由传奇芯片架构师吉姆·凯勒(Jim Keller)和DIY制造先驱萨姆·泽洛夫(Sam Zeloof)共同创立的半导体初创公司Atomic Semi,现已正式更名为Fab2,并将其业务迁至美国得克萨斯州。

此次更名标志着Fab2确立了全新的企业定位——成为一家专注于"晶圆厂制造厂"(fab fab)的超级工厂。与传统大型晶圆厂不同,Fab2的目标是大规模生产小型、软件定义的半导体晶圆厂及其内部设备,这些设备能够为远小于整片晶圆的芯片进行图形化处理,并在短短几个小时内完成原型制作的周转。

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Fab2将采用完全自主的设计和制造模式,从泵、阀门、气体管线等基础部件,到光刻系统及配套的真空腔室,所有设备都将由公司内部研发和生产。首先,这些零部件会被组装成单个机器单元;随后,这些机器单元再被集成到完整的晶圆厂系统中。这一创新模式旨在实现晶圆厂本身的规模化量产,从而大幅降低半导体制造的门槛和成本。

值得注意的是,Fab2并不追求传统的300毫米晶圆(300mm Wafers)生产规模,而是专注于小型化、灵活化的软件定义晶圆厂(Software-defined Fabs)。这种新型晶圆厂能够针对特定需求快速调整生产流程,特别适合原型设计和小批量生产场景。

萨姆·泽洛夫早在青少年时期就验证了这一理念的可行性。在2022年与吉姆·凯勒共同创立这家公司之前,他曾在父母的车库里成功制造出特征尺寸小至约300纳米的光刻芯片。然而,这种方法的主要瓶颈在于吞吐量问题。电子束光刻采用直接写入图形的方式,而非通过掩模进行投影,这导致其速度极其缓慢:在小尺寸芯片上进行单次图形化曝光,其耗费的时间可能比极紫外光刻机曝光整片300毫米晶圆所需的时间还要长得多。因此,这种方法实际上更适合原型设计和小批量生产,无法满足商业代工厂高产量量产的需求。

目前,Fab2运营着三个主要场地:位于奥斯汀的12万平方英尺(约11148平方米)设施是研发与生产的新总部;位于洛克哈特的3万平方英尺(约2787平方米)场地专门用于安置"晶圆厂制造厂"本体;而最初位于旧金山的2.5万平方英尺(约2323平方米)"车库晶圆厂"则依然保留,作为早期概念验证的场所。

Fab2的成立和发展,体现了半导体行业正在经历的一场深刻变革。随着摩尔定律逐渐接近物理极限,传统大型晶圆厂的投资回报周期越来越长,而小型、灵活的半导体制造模式正在成为新的发展方向。Fab2的"晶圆厂制造厂"概念,不仅降低了半导体制造的门槛,也为创新企业和研究机构提供了更加便捷的实验平台。