长鑫科技第六代DRAM完成4F²架构工程样片验证,首代DDR5RDIMM年底送样

长鑫科技在2026年第三季度确认其基于4F²垂直沟道架构的第六代DRAM工艺平台已完成工程样片验证,标志该技术进入客户端验证阶段。公司同步推进LPDDR6量产与G5平台扩产,并计划于2026年底向AI...

半导体/芯片

长鑫科技近日在2026年第三季度业绩交流会上披露,其第六代DRAM工艺技术平台已成功完成工程样片验证,该平台首次采用4F²垂直沟道架构。这一进展意味着核心性能指标已在真实晶圆上达到设计预期,后续经重点客户验证后即可转入规模量产阶段。

工程样片验证是DRAM研发流程中的关键节点,标志着技术从实验室走向产线前的最后一步内部确认。按行业惯例,完成此阶段后,产品将进入客户端联合测试(Customer Qualification),通常耗时3至6个月。若验证顺利,首批4F²架构DRAM有望于2027年上半年实现小批量出货。

此次技术突破的核心在于4F²垂直沟道架构的落地。传统DRAM主流采用6F²单元结构(即每个存储单元占用6个最小特征尺寸面积),而4F²方案通过将晶体管垂直堆叠并优化字线/位线布局,理论上可将单元面积压缩至原方案的三分之二,在同等晶圆面积下提升约50%的位密度。这一路径被视为应对先进制程微缩瓶颈的重要替代方案——当光刻分辨率逼近物理极限时,架构创新成为延续摩尔定律的关键突破口。

值得注意的是,4F²路线并非行业共识。美光科技总裁兼首席技术与产品官Scott DeBoer曾公开表示,美光研究该架构长达20年,最终判定其“缺乏可行的微缩路径与实际收益”,转而聚焦6F²+3D DRAM组合路线。其理由集中在工艺复杂度陡增、热预算控制困难及电容间距优化空间受限等方面。

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对此,长鑫科技在交流会中回应称,DRAM位密度提升本质是字线、位线与电容结构之间的多重空间博弈,不同厂商基于自身技术积累、产线兼容性、专利壁垒与资本结构,自然会做出差异化选择。“相关说法反映了行业在先进制程阶段面临的普遍物理挑战”,公司强调,技术路线差异应被理解为战略适配,而非优劣判断。

当前,长鑫第五代工艺平台(G5)已实现量产,主要产出245 Ball与496 Ball封装的LPDDR5X产品,构成现阶段出货主力。G5平台通过四重曝光工艺将内存阵列有源区半间距推进至11.95纳米,接近全球顶尖内存量产水平;每片晶圆裸片产出较第四代提升至少50%,显著改善成本与能效表现。

更进一步,长鑫已于2026年8月底实现LPDDR6全球首发量产,峰值速率12800 Mbps,带宽较LPDDR5X提升60%,功耗降低20%,已搭载于多款旗舰智能手机,直接服务于端侧AI算力爆发需求。该产品与G5平台协同,推动公司2026年三季度营收达1187.14亿元,环比增长19.30%;净利润889.83亿元,环比增长19.38%;整体毛利率升至89.53%,营业利润率83.43%,高附加值产品对盈利质量的拉动效应清晰可见。

在第六代平台推进的同时,长鑫正加速产品落地节奏。据透露,首款融合4F²架构与混合键合技术的DDR5 RDIMM产品预计于2026年底前向重点客户送样,优先面向AI服务器等高附加值场景。该产品采用自研VSG(垂直包围栅)晶体管结构,有效抑制漏电与短沟道效应,满足服务器7×24小时稳定运行与严苛兼容性要求。

选择将首代4F²产品定位于服务器市场,反映出长鑫的战略意图:避开消费级市场的激烈价格战,依托技术壁垒切入对可靠性、容量与带宽要求更高的企业级市场。服务器DRAM平均售价约为移动DRAM的2–3倍,且客户认证周期长、粘性高,一旦导入成功,将为公司构建可持续的利润增长极。

研发投入持续加码支撑技术迭代。2026年前三季度,长鑫累计投入研发费用110.71亿元,同比增长73.03%。高强度投入不仅覆盖4F²架构开发,还包括EUV工艺预研、3D堆叠接口标准制定及新型电容材料探索等多个前沿方向。

长鑫存储DRAM芯片渲染图

从技术演进脉络看,长鑫已形成“平台迭代—产品升级—架构创新”三位一体推进机制:G5平台保障当前产能与成本优势;LPDDR6卡位端侧AI浪潮;4F²架构则为2027年后的产品代际跃迁储备弹药。这种阶梯式布局降低了单一技术路线失败的风险,也增强了对下游客户的议价能力。

行业观察指出,DRAM产业正进入“架构竞争”新阶段。随着1αnm(约12–14nm)节点成为主流,单纯依靠光刻微缩的空间日益收窄,三星、SK海力士虽未公开转向4F²,但均在探索埋入式字线(BWL)、环形栅极(GAA)等类似垂直集成方案。长鑫作为全球少数具备全栈DRAM研发能力的厂商之一,其4F²路径若能成功量产,或将重塑中长期技术格局。

目前,长鑫尚未公布4F²架构的具体良率目标或量产时间表,仅表示“前瞻技术不会在短期全部转化为当期利润,更多是构筑中长期竞争力”。这一定位符合半导体行业规律——重大架构变革往往需2–3年才能完成从验证到盈利的闭环。

可以确定的是,随着工程样片验证完成,长鑫已实质性跨入第六代DRAM技术门槛。下一步焦点将转向客户端验证进展与首款4F² DDR5 RDIMM的送样反馈。在AI服务器内存需求年复合增长率超25%的背景下,这场架构之争的结果,或将影响未来五年全球DRAM供应格局的权重分配。