西门子与英伟达合作加速光刻计算，Calibre集成cuLitho实现全芯片OPC12倍提速 西门子EDA与英伟达宣布将NVIDIA cuLitho库集成至Calibre制造软件，显著提升计算光刻效率。该方案针对先进AI芯片制造中的光学邻近效应校正（OP... 2026年10月19日 半导体/芯片 #NVIDIA #AI芯片 分享海报
ETH突破光刻工艺！微型OLED仅变形虫大小，像素密度创纪录 苏黎世联邦理工学院（ETH Zurich）研究团队利用芯片制造光刻法，成功开发出只有变形虫大小的超高分辨率微型OLED。该技术通过核-壳结构聚合物保护发光分子，... 2026年09月24日 消费电子 #光刻技术 #ETH Zürich 分享海报
