芯片设备全球抢购潮持续,国产DUV光刻机2026年交付5台、2027年增至20台

全球晶圆厂设备订单排期已延至2027年,ASML产能被预订至2028年,EUV出货量有望达120台;国产设备加速替代,中微、盛美上海等订单饱满,首款国产浸没式DUV光刻机2026年交付5台,2027年...

半导体/芯片

全球半导体设备市场正经历一场罕见的抢购热潮。据Digitimes报道,主要晶圆厂签订的前道设备合同交付周期已普遍延长至三年后,较正常交付周期提前1–2年。这一趋势背后,是AI算力基础设施扩张引发的芯片产能竞赛——高性能计算芯片与HBM配套DRAM需求激增,直接拉动刻蚀、薄膜沉积及光刻等核心设备采购。2026年全球300毫米晶圆厂前道设备支出预计达1490亿美元(约合人民币1.0万亿元),同比增长31%;到2029年有望攀升至2270亿美元(约1.53万亿元)。中国稳居全球最大设备买家,SEMI预测2026–2027年中国设备支出将维持双位数增长。

在供不应求的卖方市场中,设备厂商成为产业链最紧俏环节。全球光刻机龙头ASML已明确释放信号:其产能已成为制约行业扩产的核心瓶颈。2026年第三季度财报显示,ASML净销售额达116.62亿欧元(约合人民币877亿元),同比增长55.2%,创历史新高;全年业绩指引已三次上调,预计净销售额达440–450亿欧元(约3311–3386亿元)。更关键的是,客户订单已排至2028年,部分企业甚至开始协商2029–2030年的远期合约。尽管ASML计划2027年将低数值孔径EUV与浸没式DUV产能各提升约30%,并研究2028年再扩产超30%,仍难以满足需求。美银研报预计,2028年ASML EUV光刻机出货量将达120台,产品均价同步上涨约5%。

涨价已成为确定性事件。ASML首席财务官戴厚杰透露,公司已与主要客户完成“基于价值定价”的沟通,即对部分机型实施提价。这不仅反映设备稀缺性,也标志着行业从“成本导向”转向“性能与交付能力优先”的新阶段。

与此同时,国产设备替代进程显著提速。2025年中国大陆半导体设备市场规模达493亿美元,占全球36.5%;国产化率升至13.6%,其中晶圆厂国产设备整体占比已达约35%。但结构性短板依然突出:射频电源等核心零部件国产化率不足12%,高端量测、清洗设备仍依赖进口。

值得瞩目的是,首款国产浸没式深紫外(DUV)光刻机已启动小规模量产。该设备适配28纳米成熟制程,通过多重曝光技术可延伸支持7纳米芯片制造,标志着我国在光刻领域取得实质性突破。根据供应链信息,2026年该设备将向中芯国际、华虹、长鑫存储等客户交付约5台;2027年产量提升至约20台,交付量直接翻4倍。这一进展虽与ASML年交付数百台的规模仍有差距,但在地缘政治约束下,其战略意义重大——它使国内晶圆厂在成熟制程领域具备了“买得到、用得上、修得了”的闭环能力。

设备厂商订单持续饱满。中微公司2026年新签订单体量与增速均创历史新高,全年在手订单充裕;盛美上海截至9月29日累计在手订单达170.73亿元,同比增长88.2%;东威科技新接订单以高端设备为主,交付排期已至2027年。长鑫存储更提议将股份回购上限提高至50亿元,强化市场对其存储扩产节奏的信心。

ASML光刻机运输现场,工作人员正将设备装入专用温控运输箱

光刻、刻蚀、薄膜沉积三大设备合计占前道投资超60%,当前国产替代仍集中于中后道及成熟制程环节。DUV光刻机的落地,将直接带动配套零部件、量测、清洗等环节需求释放。北交所多家设备链企业已进入验证阶段,技术迭代与产能爬坡有望带来业绩弹性。北方华创以51亿美元营收跻身全球设备厂商第七位; 而在“十五五”规划与新质生产力政策推动下,设备厂商获得持续订单支撑。

值得注意的是,本轮扩产逻辑与以往不同。过去十年的产能扩张多由消费电子驱动,而此次由AI服务器、数据中心与大模型训练需求主导,对高带宽内存(HBM)、先进封装及高密度互连提出更高要求。例如,单颗HBM3E芯片需多层TSV硅通孔与微凸点工艺,大幅增加刻蚀与电镀设备使用频次;AI训练芯片的高功耗特性也促使晶圆厂更重视散热设计与良率控制,间接推高量测与检测设备配置比例。

洁净室内技术人员操作半导体前道设备,背景可见多台大型机台

国产设备厂商正从“单点突破”转向“系统协同”。以中微公司的介质刻蚀设备为例,已进入台积电、三星7纳米产线验证;盛美上海的清洗设备在长江存储、长鑫存储实现批量导入。但真正的挑战在于生态构建:设备需与光刻胶、掩模版、气体材料等上游材料协同验证,且要满足晶圆厂严苛的uptime(设备综合效率)与MTBF(平均无故障时间)指标。目前国产设备平均uptime约92%,仍低于国际头部厂商98%以上的水平。

行业观察人士指出,设备交付周期拉长并非短期现象。ASML CEO傅恪礼坦言,即便2028年产能再扩30%,仍难完全匹配客户需求。这意味着未来两年内,晶圆厂将更倾向于“锁定产能+预付定金”模式,设备厂商议价权持续增强。对于中国而言,既要保障现有产能的设备供应安全,也要加速攻克EUV前道核心模块(如光源、投影物镜、精密工件台)的技术壁垒。

从刻蚀、薄膜设备订单爆满, 到DUV光刻机从5台到20台的交付跃升,国产设备正在以实际交付量回应“产能安全”这一核心命题。当全球晶圆厂把设备订单排到三年后, 中国不仅要买得到,更要造得出、用得好。这场由AI驱动的设备抢购潮,既是产业周期的峰值体现,也是国产替代从“能用”迈向“好用”的关键转折点。