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蔡司已为韩国三星电子与SK海力士的晶圆厂扩产完成供应链准备,其高数值孔径EUV(High-NA EUV)光学系统订单排至2027年。公司六年前启动光掩模量测技术...

2026年10月21日 半导体/芯片 #三星 #SK海力士
ASML公布HyperNAEUV光刻机蓝图,5nm单次曝光瞄准2035年

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10月9日,ASML与蔡司联合发布论文,正式公布下一代EUV光刻机Hyper NA的蓝图。该设备预计10年后推出,可实现5nm单次曝光,数值孔径提升至0.75,...

2026年10月09日 半导体/芯片 #ASML #蔡司
蔡司高管预测,中国15年内或造出EUV光刻机,DUV追赶速度更快

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近日,全球领先的光刻机制造商ASML的光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund在接受采访时表示,中国要开发出EUV(极紫外)光...

2026年09月04日 半导体/芯片 #EUV光刻机 #蔡司

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2026-10-25 星期日
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